台积电2nm工艺牙膏三星盗喜：2025年超越了机会
2022-12-31 10:32:55
栏目 : 网络动态
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日前的技术论坛上，世界第一大晶圆代工厂台积电发布芯片工艺路线图，其中3nm工艺有5种以上，2025年将推出2nm工艺，使用GAA晶体管技术。台积电显示，与3nm工艺相比，在相同功耗下，2nm速度快10-15%，同一速率下，功耗降低25-30%。这些指标很常见，但2nm工艺密度提高挤牙膏，仅上升了10%，远远不及摩尔定律密度倍增的要求，也远逊于前台积电新工艺至少70%密度的提高。2nm工艺难度明显成为挑战，这使得台积电未来的密度提升越来越困难，但对于竞争对手来说，台积电这次的牙膏让他们很开心，有机会去追逐。英特尔20A/18A工艺在2024-2025年不仅会给台积电2nm带来压力，更大的麻烦发生的不仅是三星，三星比台积电使用GAA晶体管更为激进，3nm工艺使用。根据三星的计划，3nm GAA工艺将于6月试产，与5nm工艺相比，该工艺性能将下降15%，功耗将减少30%，芯片面积将减少35%。三星也将2nm GAA技术的量产时期定为2025年，与台积电差不太同步。这是三星近年来首次新技术量产赶上台积电，此前落后1-2年缺乏竞争力。
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