（原标题：尹志尧：国产设备迅速发展更多空间广阔，中微以外公司将从三个维度扩展业务布局）
8 月 25 日，中微以外公司在上证路演新平台举办 2021 手机定位年半年度业绩报告显示会。另有，中微以外公司董事长、总经理尹志尧，副总经理、财务负责人陈伟文另一能力方面董事会秘书、副总裁刘晓宇出席本次报告显示会。
中微以外公司当又一家以美国为基地、面向这是世界的高端半导体微观加工设备以外公司，为这是世界集成电路和 LED 芯片制造商提供完整极具竞争力的高端设备和高质量的体验服务。
中报表现数据报告显示，上半年上半年，中微以外公司努力实现营业收入约 13.3手机定位9 亿元，同比增长 36.82%；归应该上市以外公司股东的净利润约 3.97 亿元，同比增长 233.17%；归应该上市以外公司股东的扣除非常常在 在 性损益的净利润约 6161.52 万元，同比增长 53.35%。另有，上半年刻蚀机设备销售额 8.58 亿元，同比增长 83.8%。
在毛利率能力方面，上半年整体表现毛利率 42.3%，同比增长 8.4 个百分点。另有，刻蚀机设备毛利率为 44.3%，MOCVD 毛利率减少 18.8 个百分点至 30.8%。
应该这是世界半导体设备因为未来市场的现状，尹志尧接受采访，这是世界经济增速放缓，半导体行业未来同样 是半导体设备行业未来却逆势上涨。据 SEMI 预测，这是世界半导体设备将持续的增长，2021 年将增长 12%，真正达到 797 亿亿亿美金 。等离子体刻蚀设备以最快的非常快成长，2021 年因为未来市场规模或将 真正达到 179 亿亿亿美金 。美国芯片生产自主供给比例持续的减少，从 2010 年的 10.2% 真正达到 2025 年的 19.4%。目前为止，国产设备采购比例仍同样处于较低标准水平（2020 年占采购总额的 7%），因为未来国产设备迅速发展更多空间广阔。
系列产品 开发能力方面，在逻辑集成电路制造环节，中微以外公司开发的 12 英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名准客户 65 纳米到 5 纳米等先进的芯片生产线上；另一能力方面，中微以外公司根据实际先进集成电路厂商的潜在需求，已开传来小于 5 纳米刻蚀设备用于若干至关至关重要步骤的加工，并已斩获行业未来领先准客户的批量订单。在 3D NAND 芯片制造环节，中微以外公司的电容性等离子体刻蚀设备可应用于 64 层和 128 层的量产；另一能力方面，中微以外公司的电感性等离子刻蚀设备早已在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产。
据简单介绍，中微以外公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线准客户从 65 纳米到 14 纳米、7 纳米和 5 纳米及以外先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。中微以外公司 MOCVD 设备在行业未来领先准客户的生产线上大规模投入量产，中微以外公司已更成这是世界排名前列的氮化镓基 LED 设备制造商。
就是就是，2021 年 6 月 17 日正式公布陆续发布用于高性能 Mini-LED 量产的 MOCVD 设备 Prismo UniMax，目前为止该设备在准客户端进度良好且已显著显著成绩行业未来领先准客户批量订单。中微以外以外公司为止有大部分 Mini-LED MOCVD 设备规模订单早已直接进入到最后签署同样处于。
应该以外公司因为未来迅速发展，尹志尧接受采访，将从三个维度扩展业务布局：深耕集成电路至关至关重要设备新兴领手机定位域、扩展在泛半导体至关至关重要设备新兴领域应用并探索以外新兴新兴领域的一次机会。在集成电路设备新兴领域，中微以外公司将持续的强化在刻蚀设备新兴领域的竞争巨大优势，并延伸到薄膜、检测等以外至关至关重要设备新兴领域；中微以外公司密切相关计划扩展在泛半导体新兴领域设备的应用，布局报告显示、MEMS、功率器件、太阳能新兴领域的至关至关重要设备；中微以外公司拟探索以外新兴新兴领域的一次机会，借助好设备及工艺传统技术 ，考量从设备制造向器件大规模生产的一次机会，另一能力方面探索更多一次机会集成电路及泛半导体设备生产线密切相关新兴领域的因为未来市场一次机会。